您现在的位置是:Thể thao >>正文

Ứng dụng Vonfram cải thiện hiệu suất pin

Thể thao7人已围观

简介Nghiên cứu này do Masan High-Tech Materials (MHT),ỨngdụngVonframcảithiệnhiệusuấlich thi dau bong da ...

Nghiên cứu này do Masan High-Tech Materials (MHT),ỨngdụngVonframcảithiệnhiệusuấlich thi dau bong da dem nay công ty thành viên của Tập đoàn Masan khởi xướng nhằm cải thiện hiệu suất và độ an toàn của pin Li-ion - một loại pin phổ biến trong các thiết bị như điện thoại, xe điện. Loại pin này có thể sạc nhiều lần, tích trữ lượng điện lớn nhưng có nhiều nhược điểm như độ an toàn, vòng đời ngắn, dễ gây ảnh hưởng đến môi trường.

MHT hợp tác với Trung tâm Nghiên cứu Năng lượng Mặt trời và Hydrogen Baden-Wurttemberg của Đức, nghiên cứu về việc sử dụng lớp phủ cathode gốc Vonfram trong pin Li-ion. Sau bước đầu đánh giá mức độ phù hợp của một số tiền chất Vonfram, hai đơn vị tiến hành các thử nghiệm đầu tiên về lớp phủ. Lớp phủ gốc Vonfram làm tăng đáng kể tính ổn định của chu kỳ pin Li-ion kể cả với các hạt có trọng lượng rất nhỏ.

Sắp tới, đơn vị này thực hiện thêm các nghiên cứu về điện hóa, phát triển các hóa chất Vonfram phù hợp dành riêng cho việc cải thiện hiệu suất và độ an toàn của pin. Theo đơn vị, việc sản xuất pin với hiệu suất cao và an toàn hơn là yếu tố quan trọng thúc đẩy sử dụng pin rộng rãi trên toàn cầu.

Tiến sĩ Alexander Egeberg – H.C. Starck, chủ nhiệm dự án nghiên cứu với ZSW về lớp phủ ca-tốt làm từ Vonfram trong pin Lithium-ion. Ảnh: MHT

Tags:

相关文章



友情链接